Фильтр
Нанесение фоторезистаПроявление фоторезистаСушка фоторезистаСовмещение и экспонированиеСистемы очисткиБезмасковая фотолитографияФотолитография и сварка пластин
Система лазерного прямого экспонирования и литографии MicroLab

Установка серии MicroLab представляет собой систему для формирования УФ-лучей для прямого экспонирования совместно с технологией пространственно-световой модуляции и перемещением по четырем осям. Система MicroLab предназначена для формирования точных микроструктур, а также экспонирования в градациях серого на плоских или криволинейных поверхностях с прямоугольными или полярными координатами. Также могут быть получены бинарные структуры наноразмеров.

Запросить Добавить в лист запросов
Характеристики
Система лазерного прямого экспонирования и литографии MiScan

Установка серии MiScan представляет собой систему для формирования УФ-лучей для прямого экспонирования или микро-нанолитографии. В системе MiScan установлены различные функциональные оптические системы, которые применяются совместно с технологией пространственно-световой модуляции, поддерживающей формирование микроструктур, а также фазовые модуляторы света с интерференционной технологией для непосредственного написания нано-структур.

Запросить Добавить в лист запросов
Характеристики
Высокоскоростная система лазерного прямого экспонирования и литографии iGrapher

Установка серии iGrapher представляет собой систему для формирования УФ-лучей как для прямого экспонирования микроструктур, так и для микро-нанолитографии. В системе iGrapher установлены различные функциональные оптические системы, которые применяются совместно с технологией пространственно-световой модуляции, поддерживающей формирование микроструктур, а также фазовые модуляторы света с интерференционной технологией для непосредственного написания наноструктур.

Запросить Добавить в лист запросов
Характеристики
Высокоэффективные системы для создания голограмм больших размеров HoloMaker&HoloScan

HoloMaker и HoloScan — самые мощные системы для создания дифракционных изображений, которые позволяют получать современные широкоформатные голографические системы, 3D-голограммы, оптические переменные устройства, дифракционные изображения с кинетическим эффектом и субволновые структуры на сверхбольших подложках (40"...65″ и более). Одной из особенностей этих систем является возможность непрерывно изменять шаг решетки от 300 нм до 10 мкм в период в каждом пикселе, что позволяет создавать микро-наноструктуры в одной системе.

Запросить Добавить в лист запросов
Характеристики
Высокоэффективная система лазерного наноструктурирования NanoCrystal

Система NanoCrystal200 специально разработана для наноструктурирования металлических поверхностей, наноустройств и материалов с разрешением до 100 нм.

Запросить Добавить в лист запросов
Характеристики

Присоединяйтесь к команде единомышленников Заполните заявку в Сервисную службу Самое интересное из жизни Остека в нашем инстаграме Более 300 видео на нашем канале Приглашаем к общению на нашей странице в Фейсбук