Фильтр
Атомно-слоевое осаждение (ALD)Магнетронное распыление Электронно-лучевое распыление (EBD)Ионно-лучевое распыление (IBD)Термическое осаждениеЛазерная абляцияХимическое осаждение из газовой фазы (CVD)Нанесение тонких пленок
Установка магнетронного напыления ТЕМП-74М

Установка предназначена для одностороннего и/или одновременного двустороннего магнетронного напыления металлов (Cu, Al, Ta, Cr, Ni, Ti, W и др.) и резистивных сплавов на различные типы подложек: стекло, кварц, ситалл, керамика (Al2O3, AlN и др.). Максимальная загрузка — 100 подложек размером 60×48 мм. Установка работает в автоматическом режиме по карте технологического процесса.

Запросить Добавить в лист запросов
Характеристики
Установка магнетронного напыления SC-2000 (двустороннее напыление без переворота)
Запросить Добавить в лист запросов
Характеристики
Cистема магнетронного и термовакуумного напыления SC-1000

Установка SC-1000 обеспечивает реализацию двух методов нанесения – термовакуумный и магнетронный.

Запросить Добавить в лист запросов
Характеристики

Присоединяйтесь к команде единомышленников Заполните заявку в Сервисную службу Самое интересное из жизни Остека в нашем инстаграме Более 300 видео на нашем канале Приглашаем к общению на нашей странице в Фейсбук