Магнетронное распыление

Установка предназначена для одностороннего и/или одновременного двустороннего магнетронного напыления металлов (Cu, Al, Ta, Cr, Ni, Ti, W и др.) и резистивных сплавов на различные типы подложек: стекло, кварц, ситалл, керамика (Al2O3, AlN и др.). Максимальная загрузка — 100 подложек размером 60×48 мм. Установка работает в автоматическом режиме по карте технологического процесса.

Система позволяет проводить процессы напыления многокомпонентных покрытий (металлов, резистивных слоев и др.) при температуре на подложке до 500 °С. Установка предназначена как для проведения активных исследований, так и для решения производственных задач.

Установка для проведения процессов осаждения покрытий в вакууме методом магнетронного распыления

Установка SC-1000 обеспечивает реализацию двух методов нанесения – термовакуумный и магнетронный.