Магнетронное распыление

Фильтр

Показать: Списком Плиткой

Установка магнетронного напыления ТЕМП-74М

Установка предназначена для одностороннего и/или одновременного двустороннего магнетронного напыления металлов (Cu, Al, Ta, Cr, Ni, Ti, W и др.) и резистивных сплавов на различные типы подложек: стекло, кварц, ситалл, керамика (Al2O3, AlN и др.). Максимальная загрузка — 100 подложек размером 60×48 мм. Установка работает в автоматическом режиме по карте технологического процесса.

Характеристики

Новинка

Cистема для осаждения многокомпонентных покрытий в вакууме методами магнетронного и резистивного испарения STE MS900

Система позволяет проводить процессы напыления многокомпонентных покрытий (металлов, резистивных слоев и др.) при температуре на подложке до 500 °С. Установка предназначена как для проведения активных исследований, так и для решения производственных задач.

Характеристики

Система магнетронного распыления STE MS150

Установка для проведения процессов осаждения покрытий в вакууме методом магнетронного распыления

Характеристики

Установка магнетронного напыления SC-2000 (двустороннее напыление без переворота)

Характеристики

Cистема магнетронного и термовакуумного напыления SC-1000

Установка SC-1000 обеспечивает реализацию двух методов нанесения – термовакуумный и магнетронный.

Характеристики

Магнетронное распыление

Сайты направлений

Промо сайты