Полуавтоматическая система нанесения и проявления фоторезиста EVG101

EVG101 — современная установка нанесения и проявления фоторезиста, предназначенная для обработки одной пластины в условиях мелкосерийного производства и научно-исследовательских и опытно-конструкторских работ, которая полностью совместима со всеми автоматизированными системами EVG.

EVG^®101 поддерживает работу с пластинами размером до 300 мм и может быть сконфигурирована для нанесения покрытия распылением и центрифугированием.

Равномерные слои фоторезиста или полимеров достижимы для платин с 3D-структурой, применяемых для технологий межсоединений с использованием усовершенствованной технологии покрытия OmniSpray^® от EVG. Это обеспечивает низкое потребление дорогостоящих высоковязких фоторезистивных материалов или полимеров, одновременно улучшая однородность их распределения.

Технические особенности:

• Автоматическое нанесение (центрифугированием или распылением) или проявление фоторезиста с ручной загрузкой и выгрузкой пластин;
• Легкий переход процесса от исследования к производству с использованием проверенной модульной конструкции;
• Система дозирования при помощи сопла для использования малых объемов фоторезиста, в том числе фоторезистов высокой вязкости:
• Сохранение высокого уровня безопасности персонала и безопасности процесса при использовании небольшой площади;
• Равномерное покрытие поверхностей с высокой неравномерностью рельефа при помощи технологии OmniSpray^®;
• Восковое и эпоксидное покрытие для последующего процесса соединения;
• ·Нанесение стекла центрифугированием;
• Работа с резистами вязкостью до 52000 сР.