Фильтр
Плазменная обработкаПлазменное травлениеРеактивное ионное травление (RIE)
Универсальная платформа для плазмохимического травления STE ICP200E

Универсальная технологическая платформа нового поколения для проведения процессов плазмохимического осаждения диэлектриков (SiNx, SiO2 и т.п.) в плазме индуктивного разряда

Запросить Добавить в лист запросов
Характеристики

Присоединяйтесь к команде единомышленников Заполните заявку в Сервисную службу Самое интересное из жизни Остека в нашем инстаграме Более 300 видео на нашем канале Приглашаем к общению на нашей странице в Фейсбук