15 октября 2020

Итоги Форума «Микроэлектроника 2020»

Форум «Микроэлектроника 2020», прошедший с 28 сентября по 3 октября в Ялте, стал первым офлайн событием в своей отрасли.

Долгий карантин и перенос привычных мероприятий — «ЭлектронТехЭкспо», Semiexpo — а также объединение Форума с XIX Отраслевой научно-практической конференцией по радиоэлектронной промышленности сделали мероприятие очень ожидаемым и самым массовым за всю его историю.

22.jpg

Все пять дней Форума были очень насыщены событиями. В первый день заместитель Министра промышленности и торговли РФ Олег Бочаров и директор Департамента радиоэлектронной промышленности Минпромторга РФ Василий Шпак рассказали о матрице национальных проектов, о выделяемых средствах на развитие отрасли, о формировании концернов предприятий. Если в прошлом году только говорилось о кредитах и налоговых льготах, то теперь были озвучены реальные цифры финансирования и условия получения средств.

В рамках мероприятий на заседании ассоциации «Консорциум радиоэлектронной промышленности» обсуждались пути развития отрасли и конкретные задачи государственной поддержки.

1.jpg

Источник: RUSENERGONEWS @rusenergonews

ООО «Остек-ЭК» и ГК Остек имеют успешный опыт сотрудничества с Международным форумом, и в этом году компании стали официальными партнёрами мероприятия. Традиционно к Форуму был подготовлен специальный выпуск журнала «Вектор высоких технологий»

33.jpg

Технические специалисты Остека ежегодно выступают с докладами в научно-деловой программе мероприятия.

В этом году в секции «Технологии и компоненты микро- и наноэлектроники» выступил главный специалист Технического управления ООО «Остек-ЭК» Дмитрий Суханов. Он рассказал о новой для российского рынка технологии «чёрного фоторезиста» (или Black Resist) для процессов фотолитографии. Технология, пока мало представленная российским научным сообществом, имеет большой потенциал в производстве фотонных устройств и МЭМС. Оптические материалы, получаемые методом «чёрного фоторезиста», имеют впечатляющие параметры благодаря микродисперсной технологии ультратонких пигментов и интеграции этих пигментов в химический состав фотополимеров. Использование чёрных резистивных материалов в качестве экранирующего или блокирующего слоя на линзах позволяет управлять светопропускной способностью и обеспечивает более низкую скорость отражения света по сравнению с использованием металлических слоев.

В качестве эталонного оборудования в области «чёрного фоторезиста» приводились автоматические системы экспонирования компании EVG (EV Group) — EVG 100 и EVG MLE, EVG 6200NT.

44.jpg

Мы благодарим организаторов форума «Микроэлектроника 2020» и XIX Отраслевой научно-практической конференции по радиоэлектронной промышленности за организацию столь важной в наше время площадки для обсуждения будущего отрасли, обмена опытом и живого общения.