29 мая 2020

Итоги вебинара «Технологии плазмохимического осаждения и плазмохимического травления», проведенного Остек-ЭК в мае

26 мая специалисты компании «Остек-ЭК» провели вебинар, посвященный особенностям процессов и технологий плазмохимического осаждения и плазмохимического травления. Вебинар прошел при технологической поддержке компании Ultech, Республика Корея, http://www.ultech.co.kr/, которая является признанным лидером на рынках Республики Корея, Китая, Индии, Малайзии по производству вакуумного оборудования для формирования и структурирования тонких пленок для полупроводниковых структур на основе различных материалов — как Si, SiC, так и составных полупроводников группы AIIIBV (GaAs, GaN, InP).

На вебинаре были рассмотрены области применения и особенности технологии плазмохимического осаждения и плазмохимического травления, особенности формирования и структурирования тонких пленок на полупроводниковых структурах различных материалов, технологии и оборудование компании Ultech. Также слушателям были представлены примеры структур, полученных на оборудовании компании Ultech.

Слушатели проявили большей интерес к теме вебинара и задали большое количество вопросов.

Благодарим всех слушателей за участие в нашем мероприятии!

Если у вас есть вопросы и пожелания по темам будущих вебинаров, направляйте их на электронную почту: micro@ostec-group.ru.