23 июля 2015

Компания EV Group выводит наноимпринтную литографию на новый уровень с помощью систем HERCULES® NIL

Компания EV Group (EVG), ведущий производитель систем сварки пластин и литографического оборудования для МЭМС, нанотехнологии и полупроводниковой промышленности, представила полностью интегрированную систему HERCULES® NIL, которая позволяет осуществлять очистку, нанесение фоторезиста, термическую обработку и полноразмерную наноимпринтную литографию в одной системе. Обеспечивая ведущую в отрасли производительность, HERCULES NIL представляет собой законченное решение для УФ НИЛ, идеально подходящее для массового производства в быстрорастущей области фотоники. Система обеспечивает формирование структур размерами от десятков нанометров до нескольких микрометров, которые позволяют варьировать или улучшать оптический отклик поверхностей и устройств, в том числе просветляющих слоев, светофильтров, оптических волноводов, структурированных сапфировых подложек, используемых при производстве светодиодов и т. д. Другими активно развивающимися областями применения НИЛ являются МЭМС, НЭМС, биотехнология и наноэлектроника.

«HERCULES® NIL демонстрирует в действии философию трех «и» компании EVG: «изобретение-инновация-использование», — заявил Пол Линднер, исполнительный директор компании EVG. «Компания EVG стоит у истоков развития НИЛ. После более чем 10 лет исследований и непрерывного совершенствования EVG удалось вывести технологию НИЛ на такой уровень развития, который позволяет использовать данную технологию для областей, в которых традиционно применялись методы оптической литографии. Кроме того, HERCULES® NIL охватывает большой спектр применений, особенно в областях фотоники и биотехнологии, что позволяет совместить преимущества НИЛ с возможностью обеспечения высоких показателей производительности». Система HERCULES® NIL заключает в себе большой опыт компании EVG в области НИЛ, работы с фоторезистами и интегрированных решений для массовых производств, обеспечивающих непревзойденную производительность (40 пластин диаметром 200 мм в час). Система построена на базе модульной платформы, которая позволяет использовать разнообразные материалы и получать структуры широкого диапазона размеров, что обеспечивает гибкость при решении производственных задач, а полностью закрытая конструкция минимизирует риск загрязнения.

Ключевые особенности системы:

  • Полностью автоматизированная УФ НИЛ и разъединение с малым усилием
  • Возможность работы с подложками диаметром до 200 мм
  • Полноразмерная НИЛ позволяет избежать проблемы рассовмещения, присущие системам пошаговой литографии
  • Массовое производство изделий с размерами структур до 40 нм
  • Высокая равномерность нанесения (±1%) обеспечивает минимальную толщину остаточного слоя и однородность размеров структур
  • Возможность получения широкого спектра структур различных форм и размеров, включая трехмерные структуры
  • Возможна работа с подложками с развитой топологией
  • Возможность изготовления многоразовых мягких штампов, что позволяет увеличить ресурс эталонных штампов

Уже сейчас системы HERCULES® NIL доступны для заказа. Ряд ведущих производителей фотонных устройств уже используют HERCULES® NIL в рамках своих массовых производств.