5 марта 2019

Компания «Остек-ЭК» приняла участие в 6-й Международной научно-технической конференции «Технологии микро- и наноэлектроники в микро- и наносистемной технике»

20 — 22 февраля в ИНМЭ РАН прошла 6-я Международная научно-техническая конференция «Технологии микро- и наноэлектроники в микро- и наносистемной технике», посвященная современным тенденциям развития микро- и наноэлектроники.

Сотрудники компании «Остек-ЭК» приняли участие в конференции с докладом о развитии технологии наноимпринтной литографии (Nano Imprint Lithography, NIL). NIL — технология, обеспечивающая развитие таких отраслей промышленности, как микроэлектроника, фотоника, биомедицина. Актуальность темы подтверждена живым интересом со стороны специалистов ИНМЭ РАН и других участников конференции. Подобный формат мероприятий помогает наладить эффективные пути развития и внедрения технологий.

Компания «Остек-ЭК» благодарит организаторов и участников за возможность представить свой опыт в рамках мероприятия.