23 марта 2021

RENA EPM – модульная компактная система электрохимического осаждения от компании RENA Technology GmbH

Системы RENA EPM предназначены для нанесения гальванических покрытий на полупроводниковые пластины размером от 2 до 8 дюймов. В основу конструкции заложен многолетний опыт компании-лидера в области технологий жидкостной химической обработке. Системы обладают максимальной гибкостью в сочетании с непревзойденной точностью и технологическими возможностями.

Конструкция систем — модульная, она позволяет производить обработку по одной пластине, обеспечивая оптимальный поток электролита в рабочей камере и точный контроль электрического поля, и получать покрытия с самыми жесткими требованиями к неравномерности, а также проводить осаждение различных металлов в отверстия с аспектным соотношением более чем 1:10.

Благодаря такой конструкции (модуль нанесения, модуль отмывки QDR, модуль отмывки центрифугирование SRD) и малой занимаемой площади каждого модуля систему можно адаптировать к любой задаче как в R&D, так и в мелкосерийном производстве.

Системы позволяют наносить покрытия с использованием чистых металлов (Au, Ag, Cu, Sn, Ni) и сплавов (SnAg), поддерживают обработку подложек квадратной формы, а также подложек особой геометрии.

Модульные платформы полностью ориентированы на требования пользователя и могут быть настроены в соответствии с индивидуальными потребностями клиента. Системы подходят для широкого спектра применений: для полупроводниковой промышленности, в производстве МЭМС, оптоэлектроники, а также для формирования шариковых или столбиковых выводов — bumps.

Получить более подробную информацию о возможностях RENA EPM и других системах для жидкостной химической обработки можно у официального представителя RENA Technology GmbH — компании «Остек-ЭК» по телефону: +7 495 788-44-44 или по email: info@ostec-group.ru, ostec.micro@gmail.com.