18 мая 2021

Ввод в эксплуатацию установки атомно-слоевого осаждения ALD Atomic Premium

Компания «Остек-ЭК» осуществила поставку и запустила технологический процесс с установкой атомно-слоевого осаждения ALD Atomic Premium для одного из лидеров российской электронной промышленности. Установка предназначена для нанесения однородных слоев диэлектриков и металлов, в том числе на вертикальные стенки глубокого рельефа с большим аспектным соотношением, на тонкие подзатворные и туннельные окислы, а также для формирования затворных структур вертикальных транзисторов на гетероструктурах широкозонных полупроводников и заполнения сквозных контактов с большим аспектным соотношением.

Материалы осаждения: Al2O3, HfO2, TiO2, NiO2

Размер кремниевых пластин: 100 мм и 150 мм.

Производитель оборудования: CN1, Южная Корея

На фото: установка атомно-слоевого осаждения ALD Atomic Premium и результат нанесения пленки оксида алюминия толщиной 15 нм.

Рассказывает руководитель сервисного направления компании «Остек-ЭК», Олег Козырский:

«Был проведен большой объем работ по подключению оборудования к существующим коммуникациям. Также специалисты самого предприятия-заказчика провели большую работу по подготовке помещения класса чистоты ISO5 для нового технологического процесса. Особенностью технологического процесса формирования атомарных слоев является применение опасных прекурсоров, необходимых для формирования атомарных пленок проводников и диэлектриков.

Оборудование должно было быть введено в эксплуатацию совместно с партнерами из Южной Кореи, однако в связи с острой эпидемиологической ситуацией и ограничениями на перемещение между странами приезд партнеров оказался невозможен. Исходя из данной ситуации, сотрудниками отдела сервиса было принято решение о самостоятельной пуско-наладке оборудования с привлечением удаленной поддержки производителя. Специалисты из Южной Кореи проводили дистанционную консультацию, а пуско-наладочные работы осуществлялись силами сервисного отдела «Остек-ЭК». Несмотря на сложные организационные моменты, оборудование было подключено в кратчайшие сроки — за 3 дня. На отладку технологического процесса ушло 2 недели. Были проведены тестовые технологические процессы по росту пленок оксида алюминия на кремниевых подложках, толщина пленок составила 10 нм, что было проинспектировано и подтверждено на электронном микроскопе. Также была проведена работа по инструктажу персонала заказчика для работы на новом оборудовании.

Компания «Остек-ЭК» более 30 лет осуществляет поставку оборудования и запуск технологических процессов для российских предприятий электронной промышленности и промышленных объектов. Высокий профессионализм и опыт сотрудников позволяют проводить пуско-наладочные работы комплекса высокотехнологичного оборудования, такого как установки нанесения атомарных слоев ALD, проектировать технологический процесс с ними или интегрировать их в существующий технологический процесс, отрабатывать его до получения заданного результата, а также организовывать обучение сотрудников и техническую поддержку. В референс-листе компании как гиганты электронной промышленности, такие, как Intel, Samsung так и новые предприятия, гибкие экспериментальные производства и опытные цеха.