Фильтр
Системы ионной имплантации

Представленные системы ионной имплантации созданы для максимизации однородности доз и повторяемости. Это основные рабочие лошади производителей микрочипов. Оконечные секции, где происходит столкновение ионов с подложкой дают возможность имплантации под углами вплоть до 60°от нормали к поверхности подложки. Это особенно важно для определенных применений, где требуется частично ввести легирующие атомы под предварительно уже сформированную структуру.

Характеристики