Фильтр
Система реактивного ионного травления ULTECH PERI-R (RIE System)

Система реактивного ионного травления PERI-R предназначена для выполнения сухого травления различных материалов: кремния, диэлектриков, полиамида на пластинах диаметром до 150 мм.

Характеристики
Система реактивного ионного травления в индуктивно-связанной плазме ULTECH PERI-150 (ICP-RIE System)

Система реактивного ионного травления в индуктивно-связанной плазме PERI-150 предназначена для выполнения высокоскоростного сухого травления различных материалов: кремния, диэлектриков, полиамидного слоя и полупроводниковых структур на пластинах диаметром до 150 мм.

Характеристики
Система реактивного ионного травления в индуктивно-связанной плазме ULTECH PERI-200 (ICP-RIE System)

Система реактивного ионного травления в индуктивно-связанной плазме PERI-200 предназначена для выполнения высокоскоростного сухого травления различных материалов: кремния, диэлектриков, полиамидного слоя и полупроводниковых структур на пластинах диаметром до 200 мм.

Характеристики