Фильтр
Система плазмохимического осаждения ULTECH PES Series (PECVD System)

Система PES Series предназначена для осаждения кремниевых соединений, оксидов металлов и диэлектриков

Характеристики
Система плазменного осаждения PD-1000 Plasma Deposition System

Увеличенная производительность, удовлетворяющая требованиям по большому объему загрузки

Характеристики
Система плазменного осаждения PD-1500 Plasma Deposition System

Эффективное плазменное осаждение в камере сверхбольших размеров для групповой обработки

Характеристики
Система плазменного осаждения PD-Pro Plasma Deposition System

Система PD-Pro от Nordson March специально разработана для обеспечения современных производственных требований, в которых неравномерность обработки является ключом к успеху.

Характеристики
Система атомно-слоевого осаждения ARRADIANCE GemStar XT™

Настольная система атомно-слоевого осаждения (АСО) GEMStar XT – новое поколение прекрасно зарекомендовавших себя систем серии GEMStar. Системы GEMStar XT предназначены для нанесения металлических, полупроводниковых и проводящих пленок с исключительными электрическими и барьерными свойствами. Система позволяет получать высококонформные пленки на подложках со сложной топологией, в том числе с большим удлинением.

Характеристики
Система атомно-слоевого осаждения ULTECH Space Series (ALD System)

Системы Space Series предназначены для создания слоёв диэлектрика с высокой диэлектрической проницаемостью

Характеристики
Система химического осаждения из газовой фазы с помощью нагреваемой проволоки ULTECH HW Series

Система HW Series предназначена для создания тонкоплёночных кремниевых покрытий.

Характеристики
Системы выращивания методом газофазного химического осаждения графена и углеродных нанотрубок ULTECH GRABO

Системы GRABO Series предназначена для эпитаксии различных кремниевых соединений, включая углеродные нанотрубки.

Характеристики
Производитель
Метод химического осаждения
Сбросить