Фильтр
UED-100 — система электронно-лучевой литографии, которая отличается высокой эффективностью и компактностью, обеспечивая уверенную работу в режиме высокой производительности и максимальной точности. Лазерное позиционирование и автофокус гарантируют сшивку ±10 нм и формирование линий 8 нм.
CABL-AP50 — электронно-лучевой литограф для производства DFB-лазерных диодов и устройств оптической связи. Обеспечивает высокое разрешение и высокую пропускную способность при 50 кВ. Применяется для научно-исследовательских целей.
Благодаря более высокому напряжению ускорения уменьшается рассеяние EB-резиста. Модель CABL-UH имеет точность менее 10 нм.
JBX-3050MV — система литографии с электронным пучком переменной формы для шаблонов с размером элементов до 45 нм. Передовая технология обеспечивает высокую скорость, точность и надежность. Эта система EB использует электронный пучок переменной формы 50 кВ и пошаговую платформу.
