Фильтр
UED-100 — система электронно-лучевой литографии, которая отличается высокой эффективностью и компактностью, обеспечивая уверенную работу в режиме высокой производительности и максимальной точности. Лазерное позиционирование и автофокус гарантируют сшивку ±10 нм и формирование линий 8 нм.
CABL-9000C — электронно-лучевой литограф для производства DFB-лазерных диодов и устройств оптической связи. Обеспечивает высокое разрешение и высокую пропускную способность при 50 кВ. Применяется для научно-исследовательских целей.
Благодаря более высокому напряжению ускорения уменьшается рассеяние EB-резиста. Модель CABL-UH имеет точность менее 10 нм.
JBX-3050MV — система литографии с электронным пучком переменной формы для шаблонов с размером элементов до 45 нм. Передовая технология обеспечивает высокую скорость, точность и надежность. Эта система EB использует электронный пучок переменной формы 50 кВ и пошаговую платформу.
JBX-8100FS — система электронно-лучевой литографии точечного типа, отличающаяся высокой производительностью, компактностью и энергоэффективностью.
Системы серии CABL-9000C — дальнейшее развитие в серии CABL с улучшенными работоспособностью и функциональностью. Серия CABL-C характеризуется продуманной колонной, разработанной специально для электронного пучка малого диаметра/тока большой силы. Также эта серия имеет ряд удобных для пользователя функций: модуль захвата пикселей размером 1024×1024 для изображений с высоким разрешением, общая система управления файлами для управления колонной и другие.
CABL-UH — система электронно-лучевой литографии. Отличительная особенность данной системы — это меньшее прямое рассеивание сопротивления пучка электронов в связи с высоким ускоряющим напряжением. Модель CABL-UH имеет большую точность — менее 10 нм. На выбор доступны модели с максимальным напряжением 90 кВ, 110 кВ и 130 кВ.