Полноразмерная версия установок плазменной очистки микросхем, электронных компонентов и различных изделий для среднесерийных и крупносерийных производств.
Характеристики
Установка плазменной очистки (60 литров)
Установка для плазменной очистки поверхности при производстве широкой номенклатуры микросхем, электронных компонентов и различных изделий при сохранении высокого качества техпроцесса и простоты эксплуатации.
Характеристики
Установка плазменной очистки (10 литров)
Установка для плазменной очистки поверхности при мелкосерийном, R&D-производстве, лабораторных исследованиях широкой номенклатуры микросхем, электронных компонентов и различных изделий.