Фильтр
Система быстрой термической обработки REAL RTP-100 (RTP System)

Система REAL RTP-100 предназначена для термической обработки пластин в вакууме или инертной среде, может применяться для различных процессов в условиях как лабораторного, так и мелкосерийного производства

Характеристики
Система быстрой термической обработки REAL RTP-150 (RTP System)

Система REAL RTP-150 предназначена для термической обработки пластин в вакууме или инертной среде, может применяться для различных процессов в условиях как лабораторного, так и мелкосерийного производства

Характеристики
Система быстрой термической обработки REAL RTP-200 (RTP System)

Система REAL RTP-200 предназначена для термической обработки пластин в вакууме или инертной среде, может применяться для различных процессов в условиях как лабораторного, так и мелкосерийного производства

Характеристики
Система быстрой термической обработки для серийного производства c.RAPID 200

Система c.RAPID 200 предназначена для термической обработки пластин в среде водорода или формовочного газа. Возможность обработки подложки на держателе или в магазине в комбинации с работой в вакууме или под давлением открывает широкий диапазон возможных применений для полупроводниковых соединений, таких как, например, SiC. Система измерения температуры на основе пирометра позволяет работать при низких и высоких температурах. Независимое управление ламп в комбинации с аналитическим прогнозированием и PID-управлением обеспечивает великолепную точность температуры и повторяемость процесса.

Характеристики