Фильтр
MLB 150 GEN II — система безмасковой литографии базового уровня для производства фотошаблонов, интегральных схем, МЭМС, микрооптики, различных сенсоров и прочих устройств с прецизионной структурой.
Идеально подходит для НИОКР, а также для мелкосерийного производства, позволяя достичь высокого разрешения экспонирования и одновременно максимальной гибкости благодаря работе без фотошаблонов.
MSN 200 GEN II — система безмасковой литографии с расширенными возможностями для производства фотошаблонов, интегральных схем, МЭМС, микрооптики, различных сенсоров и прочих устройств с прецизионной структурой. Работает с подложками размером до 230×230 мм. Обладает высокой точностью и производительностью.
Применяется для задач, имеющих повышенные требования к точности совмещения слоев топологии, подходит как для НИОКР, так и для серийного производства.
Может комплектоваться лазерным интерферометром, обеспечивающим максимальную точность позиционирования рисунка, для создания комплекта фотошаблонов.
ML-M-U — система безмасковой литографии с расширенными возможностями для производства фотошаблонов, интегральных схем, МЭМС, микрооптики, различных сенсоров и прочих устройств с прецизионной структурой. Позволяет экспонировать топологии высокого разрешения на подложках размером до 300×300 мм.
Подходит как для НИОКР, так и для мелкосерийного производства.
IGR-355 – система безмасковой литографии с расширенными возможностями для производства фотошаблонов, интегральных схем, МЭМС, микрооптики, различных сенсоров и прочих устройств с прецизионной структурой. Обладает высокой точностью и производительностью.
ML-M-S — система безмасковой литографии базового уровня для производства фотошаблонов, интегральных схем, МЭМС, микрооптики, различных сенсоров и прочих устройств с прецизионной структурой.
Хорошо подходит для задач НИОКР благодаря гибкой системе программирования технологического процесса.