Фильтр
EVG101 — современная установка нанесения и проявления фоторезиста, предназначенная для обработки одной пластины в условиях мелкосерийного производства и научно-исследовательских и опытно-конструкторских работ, которая полностью совместима со всеми автоматизированными системами EVG.
EVG®120 — автоматизированная система нанесения и проявления фоторезиста, предназначенная для обеспечения широкого спектра процессов при работе с фоторезистами, позволяет обрабатывать различные виды подложки до 200 мм. Широкий спектр специализированных функций позволяет последовательно выполнять как процессы по созданию тонких фоторезистивных покрытий, так и процессы для толстых резистивных покрытий, а также по передовому корпусированию (выравнивание, недозаполнение, долив) диэлектрическими полимерами (например, полиамидом) на стандартных полупроводниковых пластинах, а также на подложках неправильной формы, на подложках со сложной топографией, таких как
