HTFS-4-ATM – горизонтальная трубная печь для широкого круга термических процессов при атмосферном давлении. Подходит для малосерийного и среднесерийного производства полупроводниковых изделий.
HTFX-4-ATM – горизонтальная трубная печь для широкого круга термических процессов при атмосферном давлении. Подходит для среднесерийного и крупносерийного производства полупроводниковых изделий.
VTFS-2-ATM – вертикальная трубная печь, оснащенная роботом для загрузки пластин из кассет. Позволяет проводить широкий круг термических процессов при атмосферном давлении. Разработана для крупносерийного производства.
HTVTF-200 – высокотемпературная вертикальная трубная печь, разработанная для термической обработки пластин из SiC, GaN и AlN при температуре до 2000 °С. В зависимости от конфигурации позволяет проводить процессы отжига и оксидирования, в том числе в вакууме. Оснащена роботом для загрузки пластин из кассет. Разработана для крупносерийного производства.
VTFX-2-ATM — вертикальная трубная печь, оснащенная роботом для загрузки пластин из кассет. Позволяет проводить широкий круг термических процессов при атмосферном давлении. Обладает повышенной производительностью и малой занимаемой площадью. Разработана для крупносерийного производства.
Высокотемпературная печь Activator 150 компании Centrotherm, была разработана для отжига после имплантации карбид- кремниевых (SiC) и нитрид –галлиевых (GaN) пластин. Уникальный дизайн технологического канала и нагревательной системы позволяет достичь температуры технологического процесса до 1850°C.
Высокотемпературная печь для оксидирования Oxidator 150 компании Centrotherm, была специально разработана для оксидирования карбида кремния, но также применяется для оксидирования кремния.
Гибкая и надежная печь с конвейерной лентой c.FLEXCON подходит для всех проектов с использованием толстой плёнки. Система обеспечивает высокую производительность при экономичной и эффективной работе. Чистота и поток газа играют главную роль в качестве продукта. c.FLEXCON имеет газоплотный муфель с великолепным контролем температуры и рабочего газа. Ровный поток воздуха внутри рабочего муфеля обеспечивает оптимальные условия, а также удаление летучих органический соединений.