Фильтр
Нанесение фоторезистаПроявление фоторезистаСушка фоторезистаСовмещение и экспонированиеСистемы очисткиБезмасковая фотолитографияФотолитография и сварка пластин
Модуль сушки и задубливания фоторезиста EVG® 105

EVG®105 — модуль сушки и задубливания фоторезиста, позволяющий реализовать следующие процессы: мягкая сушка, жесткая сушка и постэкспозиционная сушка.

Запросить Добавить в лист запросов
Характеристики

Присоединяйтесь к команде единомышленников Заполните заявку в Сервисную службу Самое интересное из жизни Остека в нашем инстаграме Более 300 видео на нашем канале Приглашаем к общению на нашей странице в Фейсбук