Фильтр
Система магнетронного распыления кластерного типа SPS ULTECH MC Series (Multi Chamber Sputter System)

Система SPS MC Series предназначена для создания тонкоплёночных покрытий из различных материалов. Отличается гибкой конфигурацией, возможностью работы со сложными полупроводниковыми структурами и кварцевыми устройствами, точным контролем параметров нанесения плёночного покрытия, лёгким техническим обслуживанием.

Характеристики
Система магнетронного распыления с возможностью проведения совместных процессов ULTECH SPS-TG Series

Система SPS-TG Series предназначена для создания тонкоплёночных покрытий из различных материалов с возможностью гибкой настройки процесса.

Характеристики
Система одностороннего/двустороннего магнетронного распыления/термовакуумного испарения ULTECH SPS-ML

Система SPS-ML Series предназначена для создания тонкоплёночных покрытий для широкого перечня применений.

Характеристики
Система двухстороннего магнетронного распыления ULTECH Moon Series (In-situ Double Side Coating System)

Системы Moon Series предназначена для создания тонкоплёночных покрытий с обеих сторон пластины.

Характеристики
Система двухстороннего магнетронного распыления без переворота ULTECH SPS-DS Series

Система SPS-DS Series предназначена для создания тонкоплёночных покрытий из различных материалов с двухсторонним напылением.

Характеристики
Система термического испарения ULTECH UTE Series (Thermal Evaporation System)

Система UTE Series предназначена для контролируемого испарения с поверхности пластины с возможностью одновременной обработки нескольких пластин.

Характеристики
Система электронно-лучевого испарения ULTECH SEE-7 (E-Beam Evaporation System)

Система SEE-7 предназначена для создания тонкоплёночных металлических покрытий.

Характеристики
Система электронно-лучевого испарения с двумя источниками ULTECH SEE-7D (E-Beam Evaporation System)7D

Система SEE-7D предназначена для создания тонкоплёночных металлических покрытий с использованием двух источников испарения.

Характеристики
Система электронно-лучевого испарения ULTECH SEE-5 (E-Beam Evaporation System)

Система SEE-5 предназначена для создания тонкоплёночных металлических покрытий.

Характеристики
Система электронно-лучевого испарения в сверхвысоком вакууме ULTECH UEE-UHV Series

UEE-UHV Series Система электронно-лучевого испарения предназначена для создания тонкоплёночных металлических покрытий в условиях сверхвысокого вакуума.

Характеристики
Система импульсного лазерного напыления (лазерной абляции) сферического типа ULTECH PLD-S Series

Система PLD-S Series предназначена для создания тонкоплёночных покрытий из различных материалов, в том числе оксидных соединений.

Характеристики
Система импульсного лазерного напыления (лазерной абляции) шестигранного типа ULTECH PLD-H Series

Система PLD-H Series предназначена для создания тонкоплёночных покрытий из различных материалов, в том числе оксидных соединений.

Характеристики