Фильтр
Обработка фоторезистаСовмещение и экспонированиеБезмасковая фотолитографияФотолитография и сварка пластин
Система лазерного прямого экспонирования и литографии MicroLab

Установка серии MicroLab представляет собой систему для формирования УФ-лучей для прямого экспонирования совместно с технологией пространственно-световой модуляции и перемещением по четырем осям. Система MicroLab предназначена для формирования точных микроструктур, а также экспонирования в градациях серого на плоских или криволинейных поверхностях с прямоугольными или полярными координатами. Также могут быть получены бинарные структуры наноразмеров.

Запросить Добавить в лист запросов
Характеристики
EVG540 Автоматическая система сварки пластин

Автоматическая система сварки пластин EVG540 с одной сварочной камерой предназначена для серийного и крупносерийного производства, но также может применяться для научно-исследовательских целей в области сварки пластин, выполнении 3D межсоединений и МЭМС применений.

Запросить Добавить в лист запросов
Характеристики
Установки нанесения и проявления фоторезиста серии EVG®101

Системы серии EVG®101 сконструированы специально для нужд мелкосерийного и опытно-конструкторского производства. В этих системах используется широкий спектр методов нанесения фоторезистивных покрытий для МЭМС и полупроводниковых технологий.

Запросить Добавить в лист запросов
Характеристики
Система совмещения и экспонирования фотошаблона с пластиной EVG® 610

EVG ® 610 является универсальным оборудованием для научно-исследовательских и опытно-конструкторских работ, может обрабатывать небольшие подложки и пластины размером до 200 мм. 

Запросить Добавить в лист запросов
Характеристики
Установки чистки полупроводниковых пластин и подложек серии EVG®300

Системы серии EVG®300 сконструированы для эффективной очистки полупроводниковых пластин и подложек от загрязняющих частиц. В полупроводниковом производстве эффективное удаление загрязнений с пластин является ключевым фактором, критически влияющим на качество будущих изделий.

Запросить Добавить в лист запросов
Характеристики
EVG520IS Полуавтоматическая система сварки пластин

Полуавтоматическая система сварки пластин EVG520IS обеспечивает полностью автоматическую сварку пластин с ручной загрузкой и выгрузкой. EVG520IS проста в управлении и обеспечивает высокую производительность. В систему входит встроенная станция охлаждение и хранилище для держателей и сваренных пластин.

Запросить Добавить в лист запросов
Характеристики
EVG510 Полуавтоматическая система сварки пластин

Полуавтоматическая система сварки пластин EVG510 работает с пластинами до 200мм. Она может быть легко сконфигурирована под научно-исследовательские или производственные задачи. EVG510 обеспечивает полностью автоматический процесс сварки с ручной загрузкой и выгрузкой пластин. Модульная конструкция сварочных камер для 150мм и 200мм пластин обеспечивает совместимость со всеми системами EVG500, так же как с автоматической промышленной системой сварки пластин GEMENI. В дополнение EVG510 приспособлена для работы с наиболее сложными МЭМС применениями, требующими высокого вакуума и его прецизионного контроля.

Запросить Добавить в лист запросов
Характеристики
Бесконтактная фотолитографическая система EVG PHABLE
Запросить Добавить в лист запросов
Характеристики
Система лазерного прямого экспонирования и литографии MiScan

Установка серии MiScan представляет собой систему для формирования УФ-лучей для прямого экспонирования или микро-нанолитографии. В системе MiScan установлены различные функциональные оптические системы, которые применяются совместно с технологией пространственно-световой модуляции, поддерживающей формирование микроструктур, а также фазовые модуляторы света с интерференционной технологией для непосредственного написания нано-структур.

Запросить Добавить в лист запросов
Характеристики