Высокоэффективная система лазерного нано-структурирования SVG NanoCrystal

Система NanoCrystal200 специально разработана для наноструктурирования металлических поверхностей, наноустройств и материалов с разрешением до 100 нм.

В системе NanoCrystal200 установлен 5-осевой контроллер для реализации четырехпараметрической настройки микро-наноструктур в оптическом поле. Размер структуры, направление и координация микро-наноструктур могут быть определены и написаны NanoCrystal200. Точность корректирующей структуры в оптическом поле может быть достигнута до 0,1 нм.

Функциональные особенности

• Произвольное изменение периода решетки непрерывно от 10 мкм до 100 нм для решетчатой структуры или изготовления крупноформатной решетки;
  
• Произвольное изменение ориентации решетки непрерывно в диапазоне 360 градусов C, для изготовления наноустройств;
  
• Обрабатываемые поверхности могут быть изготовлены с любым профилированием при помощи изменения длины фокуса и резкости;
  
• Размер экспонированного пикселя и структуры в каждом пикселе может быть точно изменен в соответствии с дизайном;
  
• 3D-автофокусировка;
  
• Фазовая модуляция света с интерференционной технологией;
  
• Высокая скорость трехмерной печать.
  

Области применений

• Метаповерхность;
  
• Массив Nanolens;
  
• Массив HoloLens;
  
• Линза Френеля;
  
• 3D-дисплеи без очков с нанометровой подсветкой;
  
• Фотонные кристаллы;
  
• Другие сложные наноструктуры;
  
• Голограммы;
  
• Дифракционные элементы;
  
• Наноподложки с переменной составляющей решетки.