Платформа HERCULES® объединяет весь процесс литографического процесса в одном оборудовании. Система построена на модульной платформе и объединяет разработанную EVG технологию оптического совмещения фотошаблона с пластиной с интегрированными модулями по очистке, нанесению и проявлению фоторезиста. Это превращает HERCULES® в «единый центр», где в оборудование загружаются пластины, а выгружаются уже полностью структурированные изделия.
HERCULES® позволяет использовать процесс передачи кассета-в-кассету для различных размеров пластин. Технологический процесс обработки с пластинами от 50 до 200 мм может быть выполнен на одной конфигурации оборудования без дополнительного переоборудования, исключая его простой. То же самое относится и к процессу обработки пластин 200 и 300 мм.
Гибкая платформа HERCULES® не ограничивается обработкой только круглых пластин. Полностью автоматизированная обработка может быть реализована как прямоугольных, так и на сильно изогнутых подложках и даже целых лотках.
HERCULES® безопасно обрабатывает толстые, выпуклые, а также пластины маленького диаметра. Прецизионное совмещение по верхней стороне и совмещение верхней стороны с нижней, а также нанесение слоев фоторезиста от субмикронных до сверхмалых (до 300 мкм) можно применять для внутренних слоев и в процессе пассивации. Превосходная система совмещения обеспечивает высокую точность совмещения и результаты экспонирования при высокой пропускной способности.
Уникальные особенности
- CoverSpinTM обеспечивает малое потребление фоторезиста и оптимальную однородность покрытия
- OmniSpray® обеспечивает оптимальное покрытие поверхностей с высокой топографической плотностью
- Nanospray® для покрытия и защиты структур с отверстиями
- Обработка особо тонких и хрупких подложек
- Автоматическая обработка и хранение шаблонов
- Возможность использования фоторезистов с вязкостью до 52 000 Па*с позволяет наносить ультратолстые резистивные покрытия толщиной до 300 мкм
- Оптическое экспонирование края и/или очистка растворителем для удаления изогнутого края
Преимущества
HERCULES® — производственная платформа, сочетающая все преимущества высокоточного совмещения от EVG и систем обработки фоторезистов в минимизированном производственном решении. Поддерживает полностью автоматизированную обработку различных форм подложек, размеров, а также сильно деформированных подложек и даже целых лотков.
Возможности модульного дизайна

Модуль нанесения покрытия центрифугированием
|

Модуль нанесения покрытия распылением
|

Модуль нанесения покрытия одновременно распылением и центрифугированием
|

Nanospray® — покрытие отверстий
|

Модуль сушки и охлаждения
|

Модуль проявления
|

Предпроцессные модули
|

Модуль бесконтактного оптического предсовмещения
|

Система транспортировки между процессами
|