ПОИСК ПО САЙТУ

Жидкостное удаление фоторезиста (Wet)

Фильтр

Показать по:12 24 48 96

Список Таблица

Установка для жидкостной химической обработки с ручным управлением AP&S Wet Bench

Установка для жидкостной химической обработки предназначена для реализации стандартных технологических процессов SCI, SC2, HF (в любой концентрации), HF, DSP, KOH и других. Установка в корпусе из нержавеющей стали позволяет реализовывать даже технологические процессы с использованием растворителей с максимальной безопасностью для оператора. Кроме того, возможна реализация специализированных технологических процессов с поддержкой опытных технологов компании AP&S. Установка производится как из экономичного материала ПП, так и материала, соответствующего стандарту FM 4910.

Характеристики

Система травления фотошаблонов AP&S SpinMask

SpinMask от AP&S - это проверенная установка для процессов очистки и травления масок.

Характеристики

Автоматические установки жидкостного травления полупроводниковых пластин AP&S MultiStep, GigaStep, TeraStep

Инновационные установки для жидкостной химической обработки могут применяться в самых разных химических процессах, включая чистку, травление, удаление фоторезиста и проявление.

Характеристики