Установка магнетронного напыления ТЕМП-74М

Установка предназначена для одностороннего и/или одновременного двустороннего магнетронного напыления металлов (Cu, Al, Ta, Cr, Ni, Ti, W и др.) и резистивных сплавов на различные типы подложек: стекло, кварц, ситалл, керамика (Al2O3, AlN и др.). Максимальная загрузка — 100 подложек размером 60×48 мм. Установка работает в автоматическом режиме по карте технологического процесса.

Функциональные особенности

• Процесс нанесения пленок происходит в вакуумной камере в диапазоне рабочих давлений 0,1— 0,5 Па;
  
• Установка может работать в ручном и автоматическом режимах;
  
• Установка снабжена системой мониторинга параметров процесса;
  
• Установка оборудована блокировками, необходимыми для безопасной работы, включая блокировки положений клапанов системы водяного охлаждения, подачи высокого напряжения, откачки и т.д.
  

Области применений

• безмасляный спиральный насос со скоростью откачки не менее 9,7 л/сек;
  
• турбомолекулярный насос со скоростью откачки не менее 1300 л/сек (опционально возможна замена на криогенный насос);
  
• подложкодержатель на 100 позиций со сменными кассетами из титана для одностороннего или двустороннего напыления подложек размером 60×48 мм;
  
• заслонка из титана с возможностью позиционирования для предварительной очистки мишени любого магнетрона;
  
• блок питания ионных источников мощностью 3 кВт; ИК-нагреватель с источником дугогашения;
  
• 6 прямоугольных магнетронов с эффективной зоной распыления по длине не менее 250 мм (опционально есть возможность установки еще 6 магнетронов);
  
• 2 импульсных источника питания магнетронов (до 100 кГц) мощностью 5 кВт;
  
• 2 ионных источника;
  
• 2 линии технологических газов (аргон, кислород);
  
• размещение АРМ оператора на регулируемом кронштейне или промышленном столе.