UEE-UHV Series Система электронно-лучевого испарения предназначена для создания тонкоплёночных металлических покрытий в условиях сверхвысокого вакуума.
Применение:
многослойное или однослойное нанесение традиционных материалов;
покрытие из легированного металла (совместное испарение);
оксид кремния;
осаждение металлов (Au, Ag, Al, Cr, Cu, Fe, Ni, Sn, Ti и т.д.).
Размер обрабатываемой пластины
1 пластина до 6″
Производительность
зависит от конфигурации
Скорость вращения образца
5 — 12 об/мин
Электронно-лучевая пушка
одиночная/двойная и выдвижного/верхнего типа
Блок питания электронного луча
6 кВт/12 кВт
Электронно-лучевой источник
7 куб. см х 9 гнезд/25 куб. см х 4 гнезда/40 куб. см х 1 гнездо
Контроль осаждения
автоматический контроль толщины пленки
Блок наклона подложки
угол наклона ±60°
Охлаждение подложки
жидкостная азотная ловушка
Предельный вакуум
≤ 5×10 — 9 Торр
Вакуумный насос
крионасос + роторный (опция — безмасляный насос)
Управление процессом
управление ручное или с ПК (опция)
Запросить в один клик
Заказать звонок
Запрос оборудования на тестирование
?>
Сайт использует файлы cookie, обрабатываемые вашим браузером. Подробнее об этом вы можете узнать в Политике cookie.