Система электронно-лучевого испарения в сверхвысоком вакууме ULTECH UEE-UHV Series

ООО «Остек-ЭК»
Молдавская ул., д. 5, стр. 2, г. Москва, Россия, 121467
Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42,
www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru
ИНН 7731481077, КПП 773101001,
ОГРН 5147746189070, ОКПО 17182643

Система электронно-лучевого испарения в сверхвысоком вакууме ULTECH UEE-UHV Series

Добавить в лист запросов запросить в один клик Заказать звонок

Печать/PDF

Описание
Технические характеристики

UEE-UHV Series Система электронно-лучевого испарения предназначена для создания тонкоплёночных металлических покрытий в условиях сверхвысокого вакуума.

Применение:

многослойное или однослойное нанесение традиционных материалов;
покрытие из легированного металла (совместное испарение);
оксид кремния;
осаждение металлов (Au, Ag, Al, Cr, Cu, Fe, Ni, Sn, Ti и т.д.).

Размер обрабатываемой пластины	1 пластина до 6″
Производительность	зависит от конфигурации
Скорость вращения образца	5 — 12 об/мин
Электронно-лучевая пушка	одиночная/двойная и выдвижного/верхнего типа
Блок питания электронного луча	6 кВт/12 кВт
Электронно-лучевой источник	7 куб. см х 9 гнезд/25 куб. см х 4 гнезда/40 куб. см х 1 гнездо
Контроль осаждения	автоматический контроль толщины пленки
Блок наклона подложки	угол наклона ±60°
Охлаждение подложки	жидкостная азотная ловушка
Предельный вакуум	≤ 5×10 — 9 Торр
Вакуумный насос	крионасос + роторный (опция — безмасляный насос)
Управление процессом	управление ручное или с ПК (опция)

Система электронно-лучевого испарения в сверхвысоком вакууме ULTECH UEE-UHV Series

Применение:

Запросить в один клик

Заполните форму

Запрос оборудования на тестирование