Система безмаскового экспонирования EVG LITHOSCALE®, предназначена для проведения литографического процесса с высокой скоростью и разрешением без использования фотошаблонов.
Особенности
Высокая производительность и обработка пластин размером до 300 мм;
Высокая стабильность и долговечность;
Высокое разрешение ˂ 2 мкм линия / зазор;
Специализированная оптика для уменьшения дифракционных эффектов;
Контроль глубины резкости и система автофокусировки;
Автоматическая калибровка источника излучения;
Системы совмещения по лицевой и обратной стороне (в видимом спектре и ИК-спектре);
Автоматическая система компенсации клина;
Работа с кассетами и FOUP-контейнерами (опционально);
Модель
EVG LITHOSCALE®
Разрешение
≤2 мкм линия / зазор
Длинна волны источника излучения
375 нм и/или 405 нм
Глубина фокуса
24 мкм
Система автофокусировки
100 мкм
Точность совмещения по верхней стороне
≤±0,5 мкм
Точность совмещения по обратной стороне
≤±1,0 мкм
Точность совмещения в ИК-спеткре
≤±1,0 мкм
Диаметр обрабатываемых пластин
до 300 мм
Запросить в один клик
Заказать звонок
Запрос оборудования на тестирование
?>
Сайт использует файлы cookie, обрабатываемые вашим браузером. Подробнее об этом вы можете узнать в Политике cookie.