Система безмаскового экспонирования EVG LITHOSCALE®

Система безмаскового экспонирования EVG LITHOSCALE^®, предназначена для проведения литографического процесса с высокой скоростью и разрешением без использования фотошаблонов.

Особенности

• Высокая производительность и обработка пластин размером до 300 мм;
• Высокая стабильность и долговечность;
• Высокое разрешение ˂ 2 мкм линия / зазор;
• Специализированная оптика для уменьшения дифракционных эффектов;
• Контроль глубины резкости и система автофокусировки;
• Автоматическая калибровка источника излучения;
• Системы совмещения по лицевой и обратной стороне (в видимом спектре и ИК-спектре);
• Автоматическая система компенсации клина;
• Работа с кассетами и FOUP-контейнерами (опционально);