Ситема прямого лазерного экспонирования SVG Microlab

Установка серии MicroLab представляет собой систему для формирования УФ-лучей для прямого экспонирования совместно с технологией пространственно-световой модуляции и перемещением по четырем осям. Система MicroLab предназначена для формирования точных микроструктур, а также экспонирования в градациях серого на плоских или криволинейных поверхностях с прямоугольными или полярными координатами. Также могут быть получены бинарные структуры наноразмеров.

Технология пространственно-световой модуляции, применяемая в системе MicroLab, является основой новой технологии создания фотошаблонов или прямого экспонирования, которая принципиально отличается от традиционных технологий. Данная технология объединяет производительность лазерного луча с высоким разрешением и электронный луч, создавая мощную систему для создания фотошаблонов или прямого экспонирования, которую можно применять в различных технологиях.

По сравнению с электронно-лучевой литографией, у которой очень низкая скорость письма и высокая стоимость эксплуатации, система MicroLab является альтернативным инструментом для формирования наноструктур с низкой стоимостью эксплуатации.

Безмасковая литографическая лазерная система с технологией пространственно-световой модуляции — это идеальный выбор для формирования высококачественных микроструктур размером до 280 нм за короткое время.

Функциональные особенности

• Рабочее поле до 200×200 мм;
  
• Создание произвольных структур минимальным размером до 0,5 мкм;
  
• Высота обрабатываемого образца: до 15 мм;
  
• Срок службы источника излучения: до 10000 ч.
  

Области применений

• Изготовление прецизионных масок;
  
• Производство широкоформатных сенсорных панелей;
  
• Производство гибких плат;
  
• MEMC, биочипы;
  
• Микроконтуры для дисплеев и OLED;
  
• Компоненты для оптики;
  
• CGH;
  
• Дифракционные оптические элементы;
  
• 3D-дисплеи.