Система быстрой термической обработки для серийного производства CENTROTHERM c.RAPID 200

Система c.RAPID 200 предназначена для термической обработки пластин в среде водорода или формовочного газа. Возможность обработки подложки на держателе или в магазине в комбинации с работой в вакууме или под давлением открывает широкий диапазон возможных применений для полупроводниковых соединений, таких как, например, SiC. Система измерения температуры на основе пирометра позволяет работать при низких и высоких температурах. Независимое управление ламп в комбинации с аналитическим прогнозированием и PID-управлением обеспечивает великолепную точность температуры и повторяемость процесса.

c.RAPID 200 может работать с автоматической или полуавтоматической системой загрузки. Есть возможность последующей модернизации полуавтоматической системы до автоматической, что позволяет перейти от исследовательских работ к массовому производству.

Применение:

• отжиг в среде формовочного газа;
• отжиг в среде водорода;
• NiSi2 для кремния и SiC.

Функциональные особенности:

• работа при контролируемом уровне вакуума или давлении среды;
• гибкая настройка: подложки до 200 мм на сусцепторе или в магазинах;
• скорость нагрева до 40 К/c (кремниевая пластина 150 мм в магазине);
• великолепная однородность температуры;
• точный контроль среды;
• высокая надёжность;
• возможна установка в ряд вплотную (конфигурация с 2 станциями кассет);
• автоматическая или полуавтоматическая система загрузки.