Фильтр
ATCD-200C — компактная автоматическая установка для нанесения и проявления фоторезиста. Поддерживает работу с материалами различной вязкости, обеспечивая контролируемое формирование покрытий и высокое качество обработки подложек. Оптимальна для тестирования технологических процессов и малосерийного производства.
ATCD-200N — автоматическая система нанесения и проявления фоторезиста. Обеспечивает обработку материалов различной вязкости, позволяя достигать высокой точности и стабильности процессов.
Предназначена для выполнения процессов нанесения фоторезиста и его последующего проявления, включая операции подготовки поверхности и контроля ключевых параметров.
ATCD-200T — автоматическая установка для нанесения и проявления фоторезиста, специально разработанная для нанесения сверхтолстых покрытий, проявления и последующей сушки. Модульная архитектура позволяет достичь высокой производственной мощности при компактном расположении и обеспечивает бесшовную интеграцию в производственную систему.
ATCD-300N — компактная автоматическая система для нанесения и проявления фоторезиста. Поддерживает до восьми процессных камер и 24 модуля подогрева с возможностью интеграции дополнительных модулей. Интеграция с тремя роботами обеспечивает эффективную передачу пластин и возможность работы в линии с литографом. Подходит для обработки пластин с проектными нормами 180 нм и более.
ATCD-300T — высокопроизводительная система для нанесения и проявления фоторезиста. Поддерживает до 12 процессных камер и 36 модулей подогрева с возможностью интеграции дополнительных модулей. Интеграция с пятью роботами обеспечивает эффективную передачу пластин и возможность работы в линии с литографом. Подходит для обработки пластин с проектными нормами 90 нм и более.