Фильтр
EBE-300 — однокамерная система для осаждения тонких плёнок методом электронно-лучевого испарения на пластины диаметром до 200 мм. Применение в таких областях, как: полупроводники, дисплеи, оптика, фильтры, электронные компоненты, солнечные элементы и т. д. Позволяет работать с различными типами подложек, например, полупроводниковыми пластинами, плёнками, а также подложками из стекла, пластика, металла и других материалов. Работает с групповой загрузкой пластин. Может быть оснащена модулем плазменной очистки, модулями нагрева и охлаждения пластин.
EBE-200Dual — двухкамерная система для электронно-лучевого осаждения материалов на пластины диаметром до 200 мм. Применение в таких областях, как: полупроводники, оптические покрытия, фильтры и т. д. Использование двух камер подразумевает расположение испарителя и подложек на держателе в раздельных вакуумных камерах. Это решение позволяет держать испаритель под постоянным вакуумом даже во время процесса загрузки-выгрузки подложек, благодаря чему достигается высокая стабильность работы испарителя и исключается негативное воздействие атмосферы на материалы напыления. Конфигурация системы обеспечивает легкий доступ к испарителю, удобное обслуживание двух модулей и даёт возможность использовать широкий функционал для осаждения слоев за счет использования различных подложкодержателей с системой наклона и вращения, системы контроля за процессом и удобного программного обеспечения.
EBE-150R — однокамерная система для осаждения тонких плёнок методом электронно-лучевого испарения. Позволяет наносить пленки металлов и диэлектрических слоёв на пластины диаметром 50÷150 мм. Разработана для нужд НИОКР и имеет малые габариты.
EBE-200-3 — однокамерная система для осаждения тонких плёнок методом электронно-лучевого испарения. Позволяет наносить пленки металлов и диэлектрических слоёв на пластины диаметром до 200 мм. Система работает с групповой загрузкой пластин и разработана для серийного производства.
EB50 — однокамерная автоматическая система, которая является высокоточным комплексом для осаждения тонкоплёночных покрытий в вакууме методом испарения материалов под воздействием электронного луча. Это идеальное решение для создания многослойных структур, оптических покрытий и проводящих слоёв там, где требуется чистый и контролируемый процесс. Система разработана для серийного производства с групповой загрузкой пластин.