Плазменная очистка

Ash-1 — серия установок плазмохимической обработки поверхности пластин для удаления фоторезиста, его остатков и полимеров с поверхности Ø 6- и 8-дюймовых пластин. Возможны как высокотемпературные (250 ⁰С), так и низкотемпературные (< 100 ⁰С) процессы.

Ash-2 — серия установок плазмохимической обработки поверхности пластин для проведения процессов удаления фоторезиста, его остатков и полимеров с поверхности пластин Ø 3- / 4- / 6- / 8-дюйма. Возможны как высокотемпературные (250 ⁰С), так и низкотемпературные (< 100 ⁰С) процессы. Система может быть представлена в двухкамерном и однокамерном исполнении.

Ash-3 – установка плазмохимической низкотемпературной обработки поверхности пластин. В основном применяется для обработки поверхности и удаления остатков полимера и других загрязнений в сформированных структурах (Descum) для пластин Ø 8’’ и 12’’.

OPS-1/2 — серия установок плазмохимической обработки в кислородной плазме для проведения процессов удаления фоторезиста, его остатков и полимеров с поверхности пластин Ø /4-/6-/8-дюйма. Возможны как высокотемпературные (250 ⁰С), так и низкотемпературные (<100 ⁰С) процессы. Система может быть представлена в однокамерном (OPS-1), двухкамерном (OPS-2) исполнении.

OPS-3 — высокопроизводительная установка плазмохимической обработки в кислородной плазме для проведения процессов удаления фоторезиста, его остатков и полимеров с поверхности пластин Ø /4-/6-/8-дюйма. Возможны как высокотемпературные (250 ⁰С), так и низкотемпературные (<100 ⁰С) процессы. Конфигурация рабочего модуля позволяет проводить одновременную обработку двух пластин.