EBE-150R — однокамерная система для осаждения тонких плёнок методом электронно-лучевого испарения. Позволяет наносить пленки металлов и диэлектрических слоёв на пластины диаметром 50÷150 мм. Разработана для нужд НИОКР и имеет малые габариты.
Особенности
Загрузка системы за 1 цикл: 1 × Ø 150 мм
Неравномерность: ≤ 5 % (для пластины Ø 150 мм)
Вращающийся подложкодержатель
Возможность установки ионного источника для предварительной очистки
Полностью безмасляная система откачки
Параметр
Значение / описание
Материалы для напыления
Ag, Al, Au, Cu, Sn, Ti, SiO₂, ITO и др.
Максимальный диаметр подложки
До 150 мм
Загрузка подложкодержателя
1 пластина × Ø 150 мм
3 пластины × Ø 100 мм
Возможность обработки нестандартных образцов
Рабочая камера
Камера из нержавеющей стали (SUS) с ручным открыванием фронтальной двери
Смотровое окно с заслонкой
Экраны из нержавеющей стали (SUS304)
Нагреватель подложки
ИК-нагрев
Макс. температура: 350 °C
Источник электронно-лучевого испарения
Источник питания с выходной мощностью: макс. 6 кВт
Револьверный механизм смены тиглей: 4-6 тиглей ёмкостью 7 см³ каждый
Контроль луча: цифровое управление разверткой
Контроль толщины слоёв
Кварцевый датчик (QCM) и контроллер
Вакуумная система
Криогенный или турбомолекулярный насос и сухой форвакуумный насос
Предельный вакуум < 5,0×10⁻⁷ Торр
Управление системой
Управление при помощи ПК на базе Windows
ПО собственной разработки
Габаритные размеры (Ш × Г × В)
1010 × 1460 × 1790 мм
Запросить в один клик
Заказать звонок
Запрос оборудования на тестирование
?>
Сайт использует файлы cookie, обрабатываемые вашим браузером. Подробнее об этом вы можете узнать в Политике cookie.