8-дюймовая система ионно-лучевого осаждения (IBD) IBDep-8 / IBDep-8C

IBDep-8 – система ионно-лучевого осаждения для распыления высокооднородных и высокоплотных тонких плёнок при низких температурах. Может применяться в производстве считывающих головок, основанных на туннельном магнитосопротивлении (TMR) или анизотропном магнитосопротивлении (AMR). Прочие применения включают магнитные плёнки, используемые в магниторезистивных устройствах (Magnetic Hard Bias Films), и Брэгговские зеркала.

Система может работать с широким спектром материалов плёнок благодаря разработанному механизму распыления. Вращающийся барабан системы имеет слоты для четырёх мишеней, что позволяет одновременно работать с четырьмя типами материалов. Имеется опция установки вспомогательного источника, используемого, например, для проведения предварительной очистки in-situ и ассистирования в процессе осаждения плёнок. Когда этот источник включен в режиме ионно-лучевого травления (IBE), система может проводить процессы IBE и IBD одновременно в одной камере.

Особенности

• Применение для пластин диаметром до 200 мм
• Возможность совмещенного исполнения системы (IBD и IBE) и исполнения в кластерной конфигурации IBDep-8C с подключением до трёх процессных камер к транспортному модулю
• Возможность конфигурации системы с двумя ионно-лучевыми источниками: основным (для распыления) и вспомогательным (для предварительной очистки и вспомогательного распыления)
• Возможность установки систем контроля процесса
• Нанесение широкого спектра различных материалов: от диэлектриков до металлов
• Высокая однородность и повторяемость процесса: ≤ 1,5 %
• Контроль процесса осаждения, позволяющий получать отличную однородность от партии к партии (RtR): ≤ 1 %
• Низкая шероховатость поверхности: ≤ 1 нм СКО (Rq) для плёнки SiO₂ толщиной 200 нм
• Покрытие структур с высоким аспектным соотношением: > 30 % (аспектное соотношение 6:1)
• Проведение процессов осаждения стеков ультратонких плёнок
• Варьирование профиля осаждения при помощи наклона подложкодержателя
• Высокоплотные плёнки высокой чистоты и плёнки с контролем стехиометрии