Система магнетронного распыления MSD200

ООО «Остек-ЭК»
Молдавская ул., д. 5, стр. 2, г. Москва, Россия, 121467
Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42,
www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru
ИНН 7731481077, КПП 773101001,
ОГРН 5147746189070, ОКПО 17182643

Слой Al-Cu толщиной 4000А в случае формирования плотно расположенных структур (центр и край пластины соответственно)

Слой Al-Cu толщиной 4000А в случае формирования изолированных структур (центр и край пластины соответственно)

Осаждение стека 1000А Ti + 1500А TiW + 40000А Al-Cu

Добавить в лист запросов запросить в один клик Заказать звонок

Печать/PDF

Описание
Технические характеристики

Кластер MSD200 — это система магнетронного напыления с двумя транспортными модулями (backbone), что позволяет увеличить пропускную способность в процессе осаждения сложных многослойных металлических структур. Каждый транспортный модуль может быть оснащен собственными технологическими модулями (камерами напыления, камерами предварительной обработки и т. д.), обеспечивая возможность параллельно вести разные процессы или разделять этапы напыления. Данная конфигурация снижает риски перекрестного загрязнения, а модули напыления позволяют получать плёнки с высокой однородностью (< 3 %).

Возможность работы с пластинами Ø 150 — 200 мм
Температура подложкодержателя до 500 °С
Система подачи Ar к обратной стороне пластины для эффективной теплопередачи во время процесса
Система прижима пластины
Возможность работы с утонёнными пластинами (Taiko) благодаря системе подъёмных штифтов
Возможность подачи смещения на подложкодержатель для заполнения структур с высоким аспектным соотношением
Кластерное исполнение с двумя транспортными модулями, позволяющее подключать до шести процессных модулей напыления, до двух модулей предварительной плазменной очистки и до двух модулей совмещенной дегазации и выравнивания пластин
Доступные процессы осаждения: Al, AlCu, AlSi, TiN, TiW, Ti, W, Co, Ni и др. Возможность проведения процесса TiN-CVD
Удобное ПО с возможностью создания и редактирования рецептов, анализа данных процессов, формирования журналов и наличием интегрированных процедур для профилактического обслуживания процессных модулей

Конфигурация системы

4÷6 камер осаждения (PVD)
2 камеры плазменной очистки
2 камеры дегазации и выравнивания
2 станция охлаждения
2 загрузочных модуля (VCE)

Система магнетронного распыления MSD200

Конфигурация системы

Запросить в один клик

Заполните форму

Запрос оборудования на тестирование