Вертикальная трубная печь высокотемпературного отжига HTVTF-200

HTVTF-200 – высокотемпературная вертикальная трубная печь для термической обработки пластин из SiC. В зависимости от конфигурации позволяет проводить процессы отжига и оксидирования, в том числе в вакууме. Оснащена роботом для загрузки пластин из кассет. Разработана для крупносерийного производства.

Особенности

• Процессы: пост-имплантационный отжиг, отжиг в H₂ для оптимизации щелевых структур, мокрое окисление
• Полностью автоматическая работа с загрузкой пластин из кассет
• Рабочая температура до 2000 °С
• Загрузка до 50 пластин в реактор
• Вакуумный реактор до <10^-3 мбар (опция)
• Реактор высокой чистоты с графитовым покрытием
• Высокая однородность температуры в рабочей зоне

Характеристики процессов

• Неравномерность поверхностного сопротивления после отжига (по пластине): ≤2 % (1σ)
• Неравномерность поверхностного сопротивления после отжига (между пластинами): ≤2 % (1σ)
• Неравномерность поверхностного сопротивления после отжига (между партиями): ≤2,5 % (1σ)