CMP-200 — полуавтоматическая установка химико-механической полировки для мелкосерийного производства и НИОКР. Позволяет проводить процессы ХМП меди, вольфрама, оксидов, мелкощелевой изоляции STI и т. д.
Особенности
Автоматическая работа по рецепту, ручная загрузка и выгрузка пластин
Одна рабочая голова
Независимый контроль усилия прижима пластины и удерживающего кольца для оптимизации профиля удаления материала
Пневматическое управление давлением с использованием высокоточного электронного регулятора
Система кондиционирования полировальной подушки
Опция мониторинга силы трения для контроля точки окончания процесса
Опция мониторинга температуры полировальной подушки
Работа с пластинами до Ø 8 дюймов
Скорость вращения: 30 — 200 об/мин
Усилие прижима: 70 — 500 г/см2
Диаметр полировального стола: 508 мм
Скорость вращения полировального стола: 30 — 200 об/мин
Габариты (Ш × Г × В): 1200×1160×1960 мм
Запросить в один клик
Заказать звонок
Запрос оборудования на тестирование
?>
Сайт использует файлы cookie, обрабатываемые вашим браузером. Подробнее об этом вы можете узнать в Политике cookie.