NC200 — полуавтоматическая установка проявления фоторезиста для применений в НИОКР и малосерийных производствах МЭМС, КМОП-матриц (CIS) и других областях. Обладает разными типами сопел нанесения реагентов-проявителей, позволяя подобрать подходящую методику для лучшего удовлетворения требованиям процесса на пластинах до Ø200 мм.
Особенности
Автоматическое нанесение фоторезиста по рецепту
Работа с пластинами до Ø200 мм
Ручная загрузка/выгрузка пластин
Автоматическое дозирование химии из двух линий подачи
Конфигурируемые сопла для распыления реагентов (секторальное или коническое) или налива лужи
Вакуумная фиксация пластин на держателе
Линия подачи азота для сушки пластин
Две линии подачи химических реагентов
Поддерживаемые размеры пластин до Ø200 мм
Скорость вращения: 0 — 5000 об/мин
Точность поддержания скорости вращения: ± 2 об/мин
Ускорение шпинделя без нагрузки: 9000 об/с2
Количество этапов проявления до 10
Вакуум держателей пластин: —0,8 бар ~ —0,6 бар
Система управления: ПЛК с сенсорным дисплеем
Запросить в один клик
Заказать звонок
Запрос оборудования на тестирование
?>
Сайт использует файлы cookie, обрабатываемые вашим браузером. Подробнее об этом вы можете узнать в Политике cookie.