Система проекционной литографии ASML Twinscan NXT:2000i

ASML TWINSCAN NXT:2000i — современная установка иммерсионной литографии в глубоком ультрафиолетовом диапазоне (DUV) для серийного производства 300-мм кремниевых подложек. Принцип работы основан на проекции схемы с фотошаблона на пластину. Для увеличения разрешения система использует иммерсионную технологию: пространство между последней линзой проекционной оптики и поверхностью пластины заполнено высокоочищенной водой. Это повышает эффективную числовую апертуру (NA) системы до 1,35, что позволяет достигать разрешения элементов схемы до 38 нм. Установка оснащена двумя независимыми этапами (платформа TWINSCAN): пока один этап выполняет экспонирование пластины, второй проводит высокоточные измерения позиционирования и выравнивания следующей пластины, что обеспечивает максимальную производительность.

Система проекционной литографии ASML Twinscan NXT:2000i — ArF Scanner предназначена для проведения литографического процесса с высокой скоростью и непревзойдённым разрешением для производства устройств логики и DRAM.

Особенности

• Разрешение нового сканера: 38 нм
• Разрешение восстановленного сканера: 50 нм
• Числовая апертура: 1,35
• Производительность: 275 пластин в час
• Диаметр обрабатываемых пластин: 300 мм
• Точность совмещения слоев: 2,5 нм
• Размер кадра экспонирования: 26×33 мм