Проекционная литография — ключевая технология на этапе фронтальной обработки полупроводниковых пластин. Система Canon FPA-5550iZ2 использует i-line излучение (длина волны 365 нм) для формирования топологического рисунка на кремниевых пластинах диаметром 200 и 300 мм. Оборудование проецирует изображение с фотошаблона через высокоточную оптическую систему с коэффициентом уменьшения 4:1, обеспечивая разрешение до 350 нм. Каждый слой интегральной схемы создается путем последовательного экспонирования, совмещения с предыдущими слоями и воспроизведения сложных микроструктур необходимых для современных электронных устройств.
Canon FPA-5550iZ2 — высокопроизводительный степпер, обеспечивающий оптимальный баланс между пропускной способностью и точностью совмещения слоев. Это решение идеально подходит для производства логических чипов, памяти и КМОП-датчиков изображения с требованиями как к высокой производительности, так и к качеству продукции.
Гибкость оборудования позволяет эффективно использовать степпер в стратегии Mix-&-Match литографии, обеспечивая низкую стоимость обслуживания при сохранении высокого качества продукции. FPA-5550iZ2 может работать с пластинами диаметром 200 и 300 мм, предоставляя производителям гибкость в выборе производственных масштабов.
Особенности
Система контроля концентрации кислорода
Разрешение нового степпера: 0,35 мкм
Разрешение восстановленного степпера: 0,5 мкм
Источник излучения: i-line 365 нм
Размер фотошаблона: 6″
Возможность работать с пластинами 8″ и 12″
Размер кадра экспонирования: 26×33 мм
Система активной компенсации клина
Точность совмещения слоев в рамках одной партии: ≤18 нм
Точность совмещения слоев между партиями: ≤25 нм
Высокая производительность
Точность наложения слоев: ≥40 нм
Производительность: ≥100 пл./час
Габаритные размеры установки: 2,300×3,660×3,000 мм
Запросить в один клик
Заказать звонок
Запрос оборудования на тестирование
?>
Сайт использует файлы cookie, обрабатываемые вашим браузером. Подробнее об этом вы можете узнать в Политике cookie.