Система проекционной литографии Nikon NSR-2205EX14D

Nikon NSR-2205EX14D — высокопроизводительная установка проекционной литографии, разработанная специально для производства полупроводниковых устройств в диапазоне технологических норм от 0,5 до 0,18 микрометра. Оборудование воплощает десятилетия опыта компании Nikon в создании прецизионных литографических систем, обеспечивая исключительный уровень надежности и стабильности. Установка оснащена передовой оптической системой на основе KrF-эксимерного лазера с длиной волны 248 нм, который позволяет достичь разрешения, необходимого для современного производства микросхем. Возможна полная интеграция с существующим оборудованием, что позволяет использовать установку как для дополнения текущего производственного парка, так и для замены устаревших систем без необходимости переквалификации персонала.

Установка оптимизирована для максимизации выхода годных приборов и снижения себестоимости производства. Система обладает выдающимися характеристиками по точности совмещения (≤65 нм по 3σ), равномерности экспонирования и стабильности фокуса, обеспечивающими воспроизведение критических топологических элементов с высокой повторяемостью. Динамическая фокусировка с использованием многоточечного автофокуса компенсирует неровности пластины и колебания фокусировки, минимизируя дефекты, связанные с расфокусировкой. Благодаря встроенной системе контроля экспозиции с точностью ±1 % установка обеспечивает стабильные процессные окна даже при работе с различными типами фоторезистов и структур полупроводников.

Особенности

• Возможность in-Line-стыковки с системами нанесения и проявления фоторезиста
• Разрешение нового степпера: 0,18 мкм
• Разрешение восстановленного степпера: 0,25 мкм
• Размер кадра экспонирования: 22×22 мм / 17,9×25,2 мм
• Источник излучения: KrF 248 нм
• Работа с пластинами до 200 мм
• Точность наложения слоев: ≤ 40 нм
• Производительность: ≥ 100 пл./час