Вертикальная трубная печь VTFS-2-LPCVD

VTFS-2- LPCVD — вертикальная трубная печь, оснащенная роботом для загрузки пластин из кассет. Позволяет проводить широкий круг процессов осаждения из газовой фазы при пониженном давлении (LPCVD). Разработана для крупносерийного производства.

Особенности

• Процессы LPCVD: осаждение poly-Si, Si₃N₄, SiON, SiO₂, ФСС, БФСС
• Полностью автоматизированная загрузка пластин из кассет
• Один реактор из кварца или карбида кремния
• Рабочая температура до 1200 °С
• Неоднородность температуры в рабочей зоне реактора в пределах ±1 °С
• Нагреватель с пятью зонами контроля температуры
• Загрузка до 150 пластин в реактор
• Функция вращения лодочки (опция)

Параметры получаемых покрытий

• Неравномерность толщины БФСС: ≤5 %
• Неравномерность толщины ФСС: ≤5 %
• Неравномерность толщины poly-Si: ≤3 %
• Неравномерность толщины SiO2 (TEOS): ≤3 %
• Неравномерность толщины SiO2 (DCS (SiH₂Cl₂) + N₂O): ≤3 %
• Неравномерность толщины Si₃N₄: ≤3 %