Система прямого лазерного экспонирования MSN 200 GEN II

MSN 200 GEN II — система безмасковой литографии с расширенными возможностями для производства фотошаблонов, интегральных схем, МЭМС, микрооптики, различных сенсоров и прочих устройств с прецизионной структурой. Работает с подложками размером до 230×230 мм. Обладает высокой точностью и производительностью.

Применяется для задач, имеющих повышенные требования к точности совмещения слоев топологии, подходит как для НИОКР, так и для серийного производства.

Может комплектоваться лазерным интерферометром, обеспечивающим максимальную точность позиционирования рисунка, для создания комплекта фотошаблонов.

Особенности

• Технология пространственной модуляции света на базе матрицы цифровых микрозеркал (DMD)
• Функции автофокусировки и совмещения слоев по меткам
• Система термостабилизации воздуха в рабочей зоне
• Система фильтрации воздуха
• Система совмещения по обратной стороне (опция)
• Дифракционная оптика (опция)
• Функция экспонирования в градациях серого, 256 градаций (опция)
• Рабочий столик с лазерным интерферометром для улучшения точности совмещения до ±0,3 мкм (опция)