Заказать звонок +7 495 788-44-44
Меню
ПОИСК ПО САЙТУ
Каталог товаров Сборочное производство Полупроводниковое производство
АОИ, тестирование и контроль Инженерные решения для ЧПП
Расходные материалы
О компании Демозал Карьера Политика конфиденциальности Сертификаты Пресс-центр Каталог оборудования Решения «под ключ» МЭМС ГИС Биочипы Фотоника Радиоэлектроника Силовая электроника СВЧ
Услуги и сервис Сервис и модернизация Запасные части: 4MICRO.RU Технология Обучение персонала Сервис-деск База знаний Каталоги и брошюры Статьи Технологии Вебинары Личный кабинет Личные данные Ваше оборудование Заявки на сервис Анкеты Задать вопрос Лист запросов Подписка
Контакты
+7 495 788-44-44
Сервисный центр
8 800 700-39-39
+7 495 788-44-44
Сервисный центр
8 800 700-39-39

Установка плазмохимического травления фотошаблонов

ООО «Остек-ЭК»
Молдавская ул., д. 5, стр. 2, г. Москва, Россия, 121467
Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42,
www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru
ИНН 7731481077, КПП 773101001,
ОГРН 5147746189070, ОКПО 17182643
Установка плазмохимического травления фотошаблонов Результаты технологических процессов. Потравленный слой Cr_1 Результаты технологических процессов. Потравленный слой Cr_1 увеличение Результаты технологических процессов. Потравленный слой Cr_2 Результаты технологических процессов. Потравленный слой Cr_2 увеличение
Добавить в лист запросов запросить в один клик Заказать звонок
Печать/PDF

ET-PME – установка плазмохимического травления фотошаблонов. Оптимизированная конструкция камеры позволяет точно контролировать получаемые критические размеры (CD), формируемые на фотошаблоне. Подходит для фотошаблонов различных размеров.

Особенности

  • Высокая однородность получаемых слоев (< 5 %)
  • Широкое технологическое окно
  • Эффективное травление металлических слоев при изготовлении фотошаблонов
  • Высокая селективность травления позволяет использовать более тонкие пленки фоторезиста

Размер фотошаблонов 5″ x 5″, 7″ x 7″, 9″ x 9″
Материалы для травления Cr
Применение Формирование рисунка на фотошаблоне
Модуль Составные части Примечание
Рабочая камера Рабочая камера Анодированный алюминий
Источник плазмы Индукционно-связанная плазма (TCP)
Держатель шаблонов — Механический прижим
— Контроль температуры при помощи чиллера
ВЧ-генераторы Источник плазмы: частота 13,56 МГц, мощность 2 кВт Смещение на стол: частота 13,56 МГц, мощность 600 Вт
Система контроля окончания процесса (опционально) Оптическая эмиссионная спектроскопия, полный спектр
Система подачи газов Контроль при помощи регуляторов расхода газа (РРГ): до 10 шт.
Вакуумная система Турбомолекулярный насос (ТМН) и сухой форвакуумный насосы
Контроль давления Маятниковый клапан Для контроля давления в процессе
Вакуумметры Для процесса
Для контроля процесса откачки и напуска
Загрузочный модуль Шлюзовая или кассетная загрузка фотошаблонов
Модуль транспортировки Вакуумный робот
Вакуумный модуль выравнивания


+7 495 788-44-44
Сервисный центр
8 800 700-39-39
© 2020 ООО «Остек-ЭК»
?>
Сайт использует файлы cookie, обрабатываемые вашим браузером. Подробнее об этом вы можете узнать в Политике cookie.
ПринятьНастроитьОтклонить