Вертикальная трубная печь VTFX-2-LPCVD

VTFX-2-LPCVD — вертикальная трубная печь, оснащенная роботом для загрузки пластин из кассет. Позволяет проводить широкий круг процессов осаждения из газовой фазы при пониженном давлении (LPCVD). Обладает повышенной производительностью. Разработана для крупносерийного производства.

Особенности

• Процессы LPCVD: осаждение поли-Si, Si₃N₄, SiON, SiO₂, ФСС, БФСС
• Полностью автоматическая работа с загрузкой пластин из кассет
• Один реактор из кварца или карбида кремния
• Рабочая температура до 1200 °С
• Неоднородность температуры в рабочей зоне реактора в пределах ±0,5 °С
• Нагреватель с тремя или пятью зонами контроля температуры
• Загрузка до 150 пластин в реактор
• Функция вращения лодочки (опция)

Характеристики процессов

• Неравномерность толщины БФСС: ≤5 %
• Неравномерность толщины ФСС: ≤5 %
• Неравномерность толщины поли-Si: ≤3 %
• Неравномерность толщины SiO₂ (TEOS): ≤2,5 %
• Неравномерность толщины SiO₂ (DCS (SiH₂Cl₂) + N₂O): ≤5 %
• Неравномерность толщины Si₃N₄: ≤5 %