Серия систем атомно-слоевого осаждения (ALD) для исследовательских целей ANMx

ANMx-200 — серия систем термического атомно-слоевого осаждения c щелевым реактором. Отличаются уникальной модульной конструкцией и оптимизированной системой подачи прекурсоров, обеспечивающей высокую стабильность процессов.

Возможность применения для производства интегральных схем, МЭМС, оптоэлектроники, перовскитных солнечных элементах и других областей.

Особенности

• Для НИОКР и мелкосерийного производства
• Настраиваемые размеры камер в зависимости от применения: 200 × 400 мм², 300 × 300 мм², 600 × 600 мм²
• Возможность адаптации под конкретные задачи благодаря модульному дизайну
• Возможность размещения как стандартных пластин, так и подложек нестандартного размера
• Осаждение широкого спектра оксидных материалов, например, SiO₂, SnO₂, HfO₂, Al₂O₃ и металлических материалов, например, Cu, Ru и т. д.
• Программное обеспечение собственной разработки