Заказать звонок +7 495 788-44-44
Меню
ПОИСК ПО САЙТУ
Каталог товаров Сборочное производство Полупроводниковое производство
АОИ, тестирование и контроль Инженерные решения для ЧПП
Расходные материалы
О компании Демозал Карьера Политика конфиденциальности Сертификаты Пресс-центр Каталог оборудования Решения «под ключ» МЭМС ГИС Биочипы Фотоника Радиоэлектроника Силовая электроника СВЧ
Услуги и сервис Сервис и модернизация Запасные части: 4MICRO.RU Технология Обучение персонала Сервис-деск База знаний Каталоги и брошюры Статьи Технологии Вебинары Личный кабинет Личные данные Ваше оборудование Заявки на сервис Анкеты Задать вопрос Лист запросов Подписка
Контакты
+7 495 788-44-44
Сервисный центр
8 800 700-39-39
+7 495 788-44-44
Сервисный центр
8 800 700-39-39

Система электронно-лучевого испарения для серийного производства EBE-200-3

ООО «Остек-ЭК»
Молдавская ул., д. 5, стр. 2, г. Москва, Россия, 121467
Тел.: +7 (495) 788-44-44, факс: +7 (495) 788-44-42,
www.ostec-group.ru, info@ostec-group.ru
ИНН 7731481077, КПП 773101001,
ОГРН 5147746189070, ОКПО 17182643
Система электронно-лучевого испарения для серийного производства EBE-200-3 Рабочая камера системы Различные держатели пластин Источник электронно-лучевого испарения Револьверный держатель для тиглей Ионный источник Результаты технологических процессов. Результат осаждения слоя Ni Результаты технологических процессов. Результат осаждения слоя Ti Результаты технологических процессов. Результат осаждения стека Au/Cr
Добавить в лист запросов запросить в один клик Заказать звонок
Печать/PDF

EBE-200-3 — однокамерная система для осаждения тонких плёнок методом электронно-лучевого испарения. Позволяет наносить пленки металлов и диэлектрических слоёв на пластины диаметром до 200 мм. Система работает с групповой загрузкой пластин и разработана для серийного производства.

Особенности

  • Производительность системы за 1 цикл: 3 × Ø 200 мм
  • Неравномерность: ≤ 5 % (для пластины Ø 200 мм)
  • Вращающийся подложкодержатель
  • Возможность установки ионного источника для предварительной очистки
  • Опциональная конфигурация с двумя источниками электронно-лучевого испарения
  • Полностью безмасляная система откачки

Параметр Значение / описание
Материалы для напыления Ag, Al, Au, Cu, Sn, Ti, SiO₂, ITO и др.
Максимальный диаметр подложки До 200 мм
Загрузка подложкодержателя 3 пластины × Ø 200 мм
9 пластин × Ø 150 мм ·
22 пластины × Ø 100 мм
Рабочая камера Камера из нержавеющей стали (SUS) с ручным открыванием фронтальной двери
Смотровые окна с заслонками
Экраны из нержавеющей стали (SUS304)
Нагреватель подложки ИК-нагрев
Макс. температура: 300 °C
Источник электронно-лучевого испарения Источник питания с выходной мощностью: макс. 15 кВт
Револьверный механизм смены тиглей: 6-8 тиглей ёмкостью до 40 см³ каждый
Контроль луча: цифровое управление разверткой
Контроль толщины слоёв Кварцевый датчик револьверного типа (QCM)
Контроллер системы
Вакуумная система Криогенный или турбомолекулярный насос и сухой форвакуумный насос
Предельный вакуум < 5,0×10⁻⁷ Торр
Управление системой Управление при помощи ПК на базе Windows
ПО собственной разработки
Габаритные размеры (Ш × Г × В) 1350 × 2100 × 2200 мм


1Лист запросов
В лист запросов →
+7 495 788-44-44
Сервисный центр
8 800 700-39-39
© 2020 ООО «Остек-ЭК»
?>
Сайт использует файлы cookie, обрабатываемые вашим браузером. Подробнее об этом вы можете узнать в Политике cookie.
ПринятьНастроитьОтклонить